工程项目大环境 重庆某半导体设备厂发生时中并且发生高硅电镀工业废气（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟电镀工业废气（F⁻ 200-300mg/L）。每种电镀工业废气混合式而后容易组成氟硅酸胶体溶液，一般化学石雕文化沉淀法未能比较稳定符合标准。顶目规定要求同步操作避开硅和氟（排放出标准：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 工业废水因素及来原 大部分材料 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 从何而来 ：晶圆刻蚀焦化废污水、CMP碾磨焦化废污水、设施设备清扫冲洗水 加工处理生产技术操作流程 信息化沉定一阶段 ： 二级的反应池 ： 首个级添加Ca(OH)₂生产CaF₂和CaSiO₃沉定； 2级污泥脱水PAC（缩聚氯化铝）增幅二沉池。 固液溶合价段 ： 反渗透装置系统性 ：按照0.02μm内径膜元件挤占氢氧化铁硅和微细滤渣物。 程度脱氟时期 ： 活力性氧化的铝气体吸附塔 ：残留物氟铝离子吸附性彻底清除。 后面视觉效果 冒水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远不同于我国要求。 超滤膜系统化通量稳定的在15LMH，催化洗掉时期延迟至60天。 废水经压滤后含水量率＜65%，可按似的固废处理防范。